从"中国制造2025"的长期规划来看,经济转型升级之路已经非常明确,尤其是半导体产业作为经济质量提升的排头兵,在未来十年应该都处于黄金发展时期.高精尖的半导体技术涉及国家和社会安全,国家对于自主可控的...

溅射是制备薄膜材料的主要技术之一。它利用离子源产生的离子加速离子在真空中的积累，形成高速离子束，轰击固体表面，并在离子与固体表面的表面之间交换能量，使固体表面的原子与固体和沉积在基座表面上并被轰击。固...

1. PVD简介PVD是英文Physical Vapor Deposition（物理气相沉积）的缩写，是指在真空条件下，采用低电压、大电流的电弧放电技术，利用气体放电使靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，利用电场的加速作用，使被蒸发物质及其反应产物沉积在工件上。2. PVD技术的发展PVD技术出现于二十世纪七十年代末，制备的薄膜具有高硬度、低摩擦系数、很好的耐磨性和化学稳定性等优点。最初在高速...

磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式，相比于蒸发镀膜方式，其在很多方面有相当明显的优势。作为一项已经发展的较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多领域。 磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相镀膜方式,就是用电子枪系统把电子发射并聚焦在被镀的材料上，使其被溅射出来的原子遵循动量转换原理以较高的动能脱离材料飞向基片淀积成膜。这种被镀的材料就叫溅射靶材。 溅射靶材有金属，合金，陶瓷，硼化物等。溅射靶材...