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高密度ITO小圆靶

主要用途:蒸镀制备ITO导电膜,LED芯片。

型号:

发布时间:2022-09-22 20:25:00

浏览数:1

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化学式:In2O3/SnO2

外观:黑色块状陶瓷

晶粒度: 5~15µm

电阻率:1.2×10-4Ω·cm

线胀系数:5.8×10-6K-1

相对密度:≥99%

纯度:≥99.9%

壹浩光电提供各种纯度,规格的高纯金属溅射靶材,合金溅射靶材,非金属溅射靶材,陶瓷溅射靶材的同时还提供高纯金属颗粒,高熵合金,粉末,丝材,棒丝,片材等多种形态材料。

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