高纯铟（In）靶材

高纯铟（In）靶材产品概述：

铟溅射靶材是高纯度的铟金属构成的银色光泽的灰色靶。质地非常软，能用指甲刻痕，可塑性强，有延展性，可压成片，易熔金属。其显著特征之一是能够粘附在玻璃和其他类似表面上。铟化合物在真空下蒸发，在电子产品和光伏电池生产中形成薄膜。纯铟在半导体中用作薄膜层。铟溅射靶用于涂覆高速电动机的轴承，因为它可以使润滑油均匀分布。铟靶材还用于薄膜沉积，装饰，半导体，显示器，LED和光伏器件，功能性涂层，以及其他光学信息存储空间行业，汽车玻璃和建筑玻璃等玻璃涂层行业，光通信等。

①　元素符号： In

②　晶体结构：四方

③　磁序：抗磁性

④　密度：7.31 g·cm -3

⑤　膨胀系数：（25 °C）32.1 μm·m-1·K-1

⑥　物态：固体

⑦　热导率：81.8 W·m-1·K-1

⑧　熔点：2623 °C

⑨　沸点：4639 °C

⑩　熔化热：3.281 kJ·mol-1

⑪　汽化热：231.8 kJ·mol-1

⑫　比热容：26.74 J·mol-1·K-1

壹浩光电提供各种纯度，规格的高纯金属溅射靶材，合金溅射靶材，非金属溅射靶材，陶瓷溅射靶材的同时还提供高纯金属颗粒，高熵合金，粉末，丝材，棒丝，片材等多种形态材料。

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