高纯硅（Si）靶材

高纯硅（Si）靶材产品概括：

硅溅射靶材主要用于反应磁控溅射中，以沉积SiO2和SiN等介电层。作为重要的功能性薄膜材料，它们具有良好的硬度，光学，介电性能和耐磨性。硅靶材的耐腐蚀性在光学和微电子领域具有广阔的应用前景，并且目前在世界范围内被广泛用作功能材料。硅溅射靶整体可分为两种：单晶和多晶，目前，它主要用于LCD透明导电玻璃，建筑LOW-E玻璃和微电子行业。

①　元素符号： Si

②　晶体结构：钻石

③　磁序：：顺磁性

④　密度：2.3290 g·cm-3 

⑤　膨胀系数：（25°C）2.6μm ·m-1·K-1

⑥　物态：固体

⑦　热导率：149 W·m-1·K- 1

⑧　熔点：1414°C

⑨　沸点：3265°C

⑩　熔化热：50.21 kJ·mol- 1

⑪　汽化热：359 kJ·mol- 1

⑫　比热容：19.789J·mol- 1·K-1

壹浩光电提供各种纯度，规格的高纯金属溅射靶材，合金溅射靶材，非金属溅射靶材，陶瓷溅射靶材的同时还提供高纯金属颗粒，高熵合金，粉末，丝材，棒丝，片材等多种形态材料。

只要您提供详细的靶材信息，如纯度，尺寸，公差要求，以及技术要求，我们将加快为您报价，并且提供最快交期。