高纯钕（Nd）靶材

高纯钕（Nd）靶材产品概述：

钕(Nd)溅射靶材由高纯度钕金属组成。它的熔点1021°C，沸点3074°C，密度7.01 g/cm3  。是一种银白色，常温下在空气中缓慢氧化，能与水和酸作用放出氢。有顺磁性。存在于独居石中，由含水氯化钕经脱水后用金属钙还原，或由无水氯化钕经熔融后电解而制得。用于制造特种合金、电子仪器和光学破璃。在制造激光器材方面，有着重要的应用。

钕溅射靶材可用于薄膜沉积，装饰，半导体，显示器，LED和光伏器件，功能性涂层，以及其他光学信息存储空间行业，汽车玻璃和建筑玻璃等玻璃涂层行业，在制造激光器材方面，有着重要的应用。

①　元素符号：Nd 

②　晶体结构：六方晶胞

③　磁序：顺磁性

④　密度：7.004 g/cm³ 

⑤　膨胀系数：31.8Gpa

⑥　物态：固体

⑦　热导率：16.5W/(m·K)

⑧　熔点：1024°C

⑨　沸点：3074 ℃

⑩　熔化热：7.140kJ/mol

⑪　汽化热：273.0kJ/mol

⑫　比热容：27.45J/(mol· K)

壹浩光电提供各种纯度，规格的高纯金属溅射靶材，合金溅射靶材，非金属溅射靶材，陶瓷溅射靶材的同时还提供高纯金属颗粒，高熵合金，粉末，丝材，棒丝，片材等多种形态材料。

只要您提供详细的靶材信息，如纯度，尺寸，公差要求，以及技术要求，我们将加快为您报价，并且提供最快交期。